Motion의 에미터 제어기

에미터 인스펙터의 에미터 제어기 섹션에 있는 매개변수를 사용하면 프로젝트에서 입자가 배열되고 렌더링되는 방식을 지정할 수 있습니다.

이러한 제어기 중 일부는 에미터 HUD에 있는 제어기와 동일합니다. 단, 에미터 HUD의 방출 제어기를 통해 단일 그래픽 제어기를 사용하여 범위, 앵글, 위도(3D), 경도(3D) 및 속도 매개변수를 조작할 수 있더라도, 에미터 인스펙터는 각 매개변수에 대해 개별 숫자 제어기를 사용한다는 한 가지 차이점이 있습니다.

참고: 속성 인스펙터 및 에미터 인스펙터의 에미터 설정에 키 프레임을 지정하여 시간이 지나며 값이 변하도록 할 수 있습니다. 단, 개별 입자의 애니메이션을 제어할 방법은 없습니다.

에미터 인스펙터의 일부 매개변수는 다른 매개변수의 설정에 따라 달라집니다. 매개변수의 모든 조합은 아래에 나와 있습니다.

모양: 에미터의 전체적인 모양을 설정하는 팝업 메뉴입니다. 모양에 따라 생성된 입자의 배열이 크게 달라집니다. 에미터 모양을 선택하면 해당 모양에만 지원되는 여러 에미터 인스펙터 매개변수가 나타납니다. 예를 들어, 모양을 사각형으로 선택한 경우 정렬 옵션에서 윤곽, 타일 채우기 및 임의의 순서 채우기를 사용할 수 있습니다.
모양 팝업 메뉴에는 다음 항목이 포함되어 있습니다.
- 점: 새로운 에미터의 기본 모양으로, 입자 시스템의 단일 방출 포인트를 지정합니다.
- 선: 입자가 선에서 나타납니다. 온스크린 컨트롤(캔버스 도구 막대에서 항목 조절 도구를 선택한 경우) 또는 속성 인스펙터의 제어기를 사용하여 선의 길이 및 위치를 지정할 수 있습니다. 인스펙터에서 입자가 나타나는 특정 포인트 개수를 설정할 수 있습니다. 이 에미터 모양은 넓은 영역에 걸쳐 펼쳐지는 입자 시트를 생성하는 데 유용합니다.
- 사각형: 입자가 사각형 가장자리를 따라 또는 타일 채우기나 임의의 순서 채우기 패턴에서 나타납니다. 온스크린 컨트롤(캔버스 도구 막대에서 항목 조절 도구를 선택한 경우)을 사용하여 사각형의 크기 및 위치를 지정할 수 있습니다. 너비 및 높이를 조절하려면 모서리를, 너비 또는 높이를 따로 조절하려면 가장자리를 드래그하십시오. 정렬 매개변수(아래 설명)를 사용하면 다른 사각형 패턴을 선택할 수 있습니다. 다음 이미지에서는 정렬 매개변수가 윤곽으로 설정되어 있습니다.
  다음 조합 키를 사용하여 사각형 온스크린 컨트롤(캔버스 도구 막대에서 항목 조절 도구를 선택한 경우)의 모서리를 보다 정교하게 조작할 수 있습니다.
  - Option: 앵커 포인트를 고정한 상태로 유지하며 크기를 균일하게 조절합니다.
  - Shift: 크기를 비례적으로 조절합니다.
- 원: 입자가 원형 에미터에서 나타납니다. 정렬 매개변수(아래 설명)에서 선택한 설정에 따라 입자가 윤곽, 타일 채우기 또는 임의의 순서 채우기 패턴에서 나타납니다. 온스크린 컨트롤(캔버스 도구 막대에서 항목 조절 도구를 선택한 경우)을 사용하여 원의 크기 및 위치를 지정할 수 있습니다. 다음 이미지에서는 모양의 정렬 매개변수가 윤곽으로 설정되어 있습니다.
- 버스트: 입자가 분출 패턴에서 나타납니다. 온스크린 컨트롤(캔버스 도구 막대에서 항목 조절 도구를 선택한 경우)을 사용하여 분출 크기 및 위치를 지정할 수 있습니다.
- 나선형: 입자가 나선형 패턴에서 나타납니다. 온스크린 컨트롤(캔버스 도구 막대에서 항목 조절 도구를 선택한 경우)을 사용하여 나선형 패턴 크기 및 위치를 지정할 수 있습니다.
- 물결: 입자가 물결에서 나타납니다. 온스크린 컨트롤(캔버스 도구 막대에서 항목 조절 도구를 선택한 경우) 또는 에미터 인스펙터의 시작점 및 끝점 제어기를 사용하여 물결의 길이 및 위치를 지정할 수 있습니다.
- 배치: 모양 소스로 사용되는 스플라인 대상체로 지정한 모양의 가장자리에서 입자가 나타납니다. 다음 이미지 중 오른쪽 이미지는 에미터 소스로 사용되는 모양을 보여 줍니다. 왼쪽 이미지는 모양 소스의 가장자리에서 분출되는 입자를 보여 줍니다.
  입자 에미터의 배치 모양 소스로 모양을 적용하려면 모양을 에미터 인스펙터의 모양 소스 저장소로 드래그하면 됩니다(모양 팝업 메뉴에서 배치로 설정한 경우).
- 이미지: 입자가 이미지에서 지정된 영역 내에서 또는 이미지의 가장자리에서만 나타납니다. 이미지에는 알파 채널이 있거나 없을 수 있는데, 전자의 경우 알파 채널 모양을 사용하여 에미터 모양을 지정할 수도 있습니다. 다음 이미지 중 오른쪽 이미지는 에미터 이미지 소스로 사용되는 이미지를 보여 주고, 왼쪽 이미지는 이미지 안에서 분출되는 입자를 보여 줍니다.
  입자 에미터의 이미지 소스로 이미지를 적용하려면 이미지를 에미터 인스펙터의 이미지 소스 저장소로 드래그하면 됩니다(모양 팝업 메뉴에서 이미지로 설정한 경우).
- 상자: 이 옵션은 에미터 인스펙터에서 3D 체크상자(아래 설명)를 선택한 경우에 사용할 수 있습니다. 입자는 표면(윤곽)을 따라 3차원 큐브에서 방출되거나 정렬 팝업 메뉴에서 설정한 타일 채우기 또는 임의 채우기 패턴(아래 설명)에서 방출됩니다. 온스크린 컨트롤(캔버스 도구 막대에서 항목 조절 도구를 선택한 경우)을 사용하여 사각형의 크기 및 위치를 지정할 수 있습니다. 높이를 조절하려면 전면 수평 가장자리를, 너비를 조절하려면 전면 수직 가장자리를, 심도를 조절하려면 후면 가장자리를, 너비와 높이를 동시에 조절하려면 전면 모서리를 드래그하면 됩니다. 에미터의 위치를 변경하려면 가장자리 또는 모서리 포인트가 아닌 모양 안쪽을 드래그하십시오. 다음 이미지는 정렬이 타일 채우기로 설정된 상자 모양을 보여 줍니다.
- 스피어: 이 옵션은 에미터 인스펙터에서 3D 체크상자(아래 설명)를 선택한 경우에 사용할 수 있습니다. 입자는 표면(윤곽)을 따라 3차원 스피어에서 방출되거나 정렬 팝업 메뉴에서 설정한 타일 채우기 또는 임의 채우기 패턴(아래 설명)에서 방출됩니다. 온스크린 컨트롤(캔버스 도구 막대에서 항목 조절 도구를 선택한 경우)을 사용하여 스피어의 반경 및 위치를 지정할 수 있습니다. 스피어의 윤곽을 드래그하여 반경을 조절하거나 스피어 안쪽을 드래그하여 캔버스에서 위치를 조절하십시오.
정렬: 입자를 생성하는 데 사용되는 패턴을 지정하는 팝업 메뉴로, 모양 팝업 메뉴를 사각형, 원, 이미지, 상자 또는 스피어로 설정한 경우 사용할 수 있습니다. 다음과 같은 세 가지 메뉴 옵션이 있습니다.
- 윤곽: 입자가 2D 에미터 모양의 가장자리 및 3D 에미터 모양의 표면을 따라 방출됩니다.
- 타일 채우기: 입자가 원, 사각형, 이미지, 상자 또는 스피어의 행, 열 및 순위(3D 에미터의 경우) 타일 패턴에서 방출됩니다. 열, 행 및 순위 수와 타일 오프셋을 지정할 수 있습니다.
- 임의의 순서 채우기: 입자가 원, 사각형, 이미지, 상자 또는 스피어 안쪽에서 임의의 순서로 방출됩니다.
크기/반경: 입자가 방출되는 큐브 또는 사각형 크기를 설정하는 슬라이더로, 모양 팝업 메뉴를 사각형 또는 상자로 선택한 경우 사용할 수 있습니다. 모양을 사각형으로 선택한 경우 너비 및 높이 제어기가 활성화됩니다. 모양을 상자로 선택한 경우 심도 제어기가 추가로 활성화됩니다. 모양을 원으로 선택한 경우 이 매개변수가 반경으로 변합니다.
참고: 높이는 프로젝트 픽셀로 측정되고 너비는 정사각형 픽셀로 측정되므로, 캔버스의 오른쪽 상단 모서리에 있는 보기 팝업 메뉴에서 영상비 수정이 활성화되면 숫자로 표시된 정사각형 모양이 정사각형으로 보입니다.
열: 모양을 사각형, 원, 이미지, 상자 또는 스피어로, 정렬을 타일 채우기로 설정한 경우 사용할 수 있는 슬라이더로, 선택한 에미터 모양 위 그리드 패턴의 수평 에미터 포인트 개수를 설정합니다. 모양이 불규칙한 경우(비정방형) 모양 외부에 있는 그리드 포인트는 무시됩니다.
행: 모양을 사각형, 원, 이미지, 상자 또는 스피어로, 정렬을 타일 채우기로 설정한 경우 사용할 수 있는 슬라이더로, 선택한 에미터 모양 위 그리드 패턴의 수직 포인트 개수를 설정합니다. 모양이 불규칙한 경우(비정방형) 모양 외부에 있는 그리드 포인트는 무시됩니다.
순위: 입자가 방출되도록 선택한 모양 위 그리드 패턴의 Z 공간 내 포인트 개수를 설정하는 슬라이더로, 모양을 상자 또는 스피어, 정렬을 타일 채우기로 설정한 경우 사용할 수 있습니다.
타일 오프셋: 모양을 사각형, 원, 이미지, 상자 또는 스피어로, 정렬을 타일 채우기로 설정한 경우 사용할 수 있는 슬라이더로, 0~100% 값은 오른쪽으로 행을 오프셋하고, 0~-100% 값은 왼쪽으로 행을 오프셋합니다. 값이 50 또는 –50%이면 ‘벽돌’ 패턴이 생성됩니다.
이미지 소스: 에미터의 모양을 정의하는 데 사용되는 대상체를 지정하기 위한 이미지 보관소로, 모양을 이미지로 설정한 경우 사용할 수 있습니다.
모양 소스: 에미터의 모양을 정의하는 데 사용되는 스플라인 대상체를 지정하기 위한 이미지 보관소로, 모양을 배치로 설정한 경우 사용할 수 있습니다.
방출 알파 컷오프: 모양을 이미지로 설정한 경우 사용할 수 있는 슬라이더입니다. 이미지 소스 대상체에 알파 채널이 포함된 경우, 이 슬라이더를 사용하면 소스 이미지의 해당 포인트에서 입자를 생성하는 데 필요한 최소 불투명도 값을 지정할 수 있습니다. 예를 들어, 방출 알파 컷오프를 25%로 설정하면 이미지의 알파 값이 불투명도 25% 이상인 위치에서만 입자가 나타납니다. 방출 알파 컷오프 값이 낮을수록 더 많은 입자가 표시됩니다. 이 매개변수가 제대로 효과를 발휘하려면 알파 채널에 투명도 영역이 다양해야 합니다.
시작점: 에미터 모양으로 사용되는 선의 첫 번째 포인트를 X 및 Y 좌표로 지정하는 값 슬라이더로, 모양 팝업 메뉴를 선 또는 물결로 설정한 경우 사용할 수 있습니다. 시작점의 Z 위치를 수정하려면 펼침 삼각형을 클릭하면 됩니다. 캔버스에서 온스크린 컨트롤을 사용하여 이러한 값을 조절할 수 있습니다(캔버스 도구 막대에서 항목 조절 도구를 선택한 경우).
끝점: 에미터 모양으로 사용되는 선의 두 번째 지점을 X 및 Y 좌표로 지정하는 값 슬라이더로, 모양을 선 또는 물결로 설정한 경우 사용할 수 있습니다. 시작점의 Z 위치를 수정하려면 펼침 삼각형을 클릭하면 됩니다. 캔버스에서 온스크린 컨트롤을 사용하여 이러한 값을 조절할 수 있습니다(캔버스 도구 막대에서 항목 조절 도구를 선택한 경우).
포인트에서 방출: 모양을 선, 사각형(정렬을 윤곽 또는 임의의 순서로 설정한 경우) 또는 원(정렬을 윤곽 또는 임의의 순서로 설정한 경우), 분출, 나선형, 물결, 배치, 상자(정렬을 윤곽으로 설정한 경우) 또는 스피어(정렬을 윤곽으로 설정한 경우)로 지정한 경우 사용할 수 있는 체크상자입니다. 포인트에서 방출 체크상자를 선택하면 입자가 포인트 매개변수(아래 설명)에서 지정한 제한된 포인트 개수에서 방출됩니다. 체크상자를 선택 해제하면 입자가 선 또는 가장자리의 아무 지점에서나 나타날 수 있습니다. 캔버스 도구 막대에서 항목 조절 도구를 선택한 경우 캔버스에 포인트가 표시됩니다.
포인트/암당 포인트: 포인트에서 방출 체크상자가 선택되고, 모양이 선, 사각형, 이미지, 원(정렬을 윤곽 또는 임의의 순서 채우기로 설정) 또는 분출, 나선형, 물결, 배치로 설정된 경우 사용할 수 있는 슬라이더입니다. 입자가 방출되는 포인트 개수를 지정할 수 있습니다. 사각형 또는 원 모양의 경우, 정렬을 윤곽으로 설정하면 모양 가장자리를 따라 고르게 배열된 포인트에서 입자가 방출됩니다. 캔버스 도구 막대에서 항목 조절 도구를 선택한 경우 캔버스에 포인트가 표시됩니다.
포인트 개수가 많으면 컴퓨터의 처리 성능이 저하될 수 있습니다.
반경: 입자가 방출되는 모양 크기를 지정하는 슬라이더로, 모양을 원, 분출, 나선형 또는 스피어로 설정한 경우 사용할 수 있습니다.
트위스트: 나선형 패턴의 회전 수를 지정하는 슬라이더로, 모양을 나선형으로 설정한 경우 사용할 수 있습니다. 기본값은 0.25입니다.
암 개수: 입자가 방출되는 갈래 수를 지정하는 슬라이더로, 모양을 분출 또는 나선형으로 설정한 경우 사용할 수 있습니다. 기본값은 3입니다.
진폭: 파형의 가장 높은 지점에서 가장 낮은 지점까지의 절반 거리를 지정하는 슬라이더로, 모양을 물결로 설정한 경우 사용할 수 있습니다. 값이 커질수록 물결이 아주 많아집니다.
빈도: 파형 개수를 지정하는 슬라이더로, 모양을 물결로 설정한 경우 사용할 수 있습니다. 값이 커질수록 물결이 많아집니다.
위상: 경로의 시작과 끝점에서 파형의 오프셋 각도를 지정하는 다이얼로, 모양을 물결로 설정한 경우 사용할 수 있습니다. 0도(기본값)로 설정하면 물결이 파형의 가장 높은 지점에서 가장 낮은 지점까지의 절반 거리에서 나타났다가 사라집니다. 90도로 설정하면 물결이 가장 높은 지점에서 나타났다가 사라집니다. -90도로 설정하면 물결이 가장 낮은 지점에서 시작됩니다. 180도로 설정하면 물결은 0도로 설정했을 때와 동일하지만, 반전됩니다.
댐핑: 파형의 진동이 점진적으로 줄어드는 방향을 지정하는 슬라이더로, 모양을 물결로 설정한 경우 사용할 수 있습니다. 댐핑 값이 양수이면 파형이 전방(왼쪽에서 오른쪽)으로 갈수록 줄어들고, 음수이면 파형이 후방(오른쪽에서 왼쪽)으로 갈수록 줄어듭니다.
오프셋: 모양을 선, 사각형(정렬을 윤곽으로 설정한 경우), 원(정렬을 윤곽으로 설정한 경우), 분출, 나선형, 물결, 배치 또는 이미지로 설정한 경우 사용할 수 있는 슬라이더입니다. 에미터 자체 또는 모양에서 생성된 입자의 오프셋을 설정할 수 있습니다. 예를 들어, 에미터 모양이 선이라면 오프셋 값을 변경하면 캔버스에서 에미터 위치가 이동합니다. 에미터 모양이 사각형이고 정렬을 윤곽으로 설정한 경우 오프셋 값을 변경하면 입자가 모양 가장자리를 따라 이동합니다.
3D: 선택하면 모양 팝업 메뉴에서 상자 및 스피어 옵션이 활성화되는 체크상자입니다. 3D 공간에서 모든 에미터 모양을 조작할 수 있기 때문에, 3D 체크상자를 선택하면 모든 에미터 모양에 입자 렌더링, 방출 위도, 방출 경도와 같은 3D 매개변수도 추가로 사용할 수 있습니다. 이러한 추가 매개변수는 에미터 인스펙터 및 HUD에 나타납니다.
참고: 3D 체크상자를 선택하면 입자가 반사 값을 수신하지 못하며, 속성 인스펙터의 반사 매개변수를 더 이상 에미터에 사용할 수 없습니다. 또한, 3D 체크상자를 선택한 경우 입자 렌더링 팝업 메뉴에서 전역 3D(효과 우선)를 선택해야 입자가 그림자를 드리우고 조명을 받아 변하도록 할 수 있습니다.
HUD의 추가 3D 제어기에 대한 자세한 정보는 HUD에서 입자 조절하기의 내용을 참조하십시오.
방출 앵글: 입자가 이동하는 방향을 설정하는 다이얼로, 모양 팝업 메뉴를 2D 모양으로 설정한 경우 사용할 수 있습니다. 이 제어기는 방출 범위 제어기(아래 설명)와 함께 사용되는데, 이는 에미터 HUD의 방출 그래픽 제어 기능 중 하나와 같습니다.
참고: 정렬을 윤곽으로 설정한 상태에서 선, 원, 사각형, 나선형, 분출, 물결과 같이 포인트가 아닌 에미터 모양을 사용하는 경우, 방출 앵글 매개변수를 180도로 설정하고 방출 범위 매개변수를 0도로 설정하면 입자의 방출이 모양 안쪽으로 제한됩니다. 방출 앵글 매개변수 및 방출 범위 매개변수를 모두 0도로 설정하면 입자의 방출이 모양 바깥쪽 영역으로 제한됩니다.
방출 범위: 방출 앵글 방향을 입자가 생성되는 각 방출점의 중앙 주변으로 제한하는 다이얼입니다. 이는 에미터 HUD의 방출 그래픽 제어 기능 중 하나와 같습니다.
참고: 선, 원, 사각형, 나선형, 분출 또는 물결(배치 제외) 모양을 사용하는 경우, 방출 범위를 0도로 설정하면 입자가 수직 선상을 유지하며 에미터에서 방출됩니다.
입자 렌더링: 입자 렌더링 방식을 다음 두 가지 중에서 선택하는 데 사용되는 팝업 메뉴로, 3D 체크상자를 선택한 경우 이용할 수 있습니다.
- 로컬 3D(속도 우선): 기본 설정으로, 입자를 더 빠르게 렌더링하지만, 에미터 그룹의 레이어 또는 다른 그룹의 레이어와 교차하도록 설정할 수 없습니다. 입자에 그림자를 드리우지도 못합니다.
- 전역 3D(효과 우선): 입자가 에미터 그룹의 레이어 및 다른 그룹의 레이어와 교차할 수 있습니다. 이 옵션을 켜면 프로젝트의 재생 성능이 영향을 받아 느려집니다.
  중요사항: 3D 입자에 그림자를 드리우고 조명 및 심도 설정으로 제어하려면, 3D 체크상자를 선택하고 입자 렌더링 팝업 메뉴에서 전역 3D(효과 우선)를 선택해야 합니다.
방출 위도: 입자의 방출 방향(위도)을 설정하는 다이얼로, 3D 체크상자를 선택한 경우 사용할 수 있습니다.
방출 경도: 입자가 방출되는 회전 축(경도)을 설정하는 다이얼로, 3D 체크상자를 선택한 경우 사용할 수 있습니다.
심도 정렬됨: 선택 해제하면 입자가 크기에 관계없이 완전히 무작위로 배열되도록 하는 체크상자로, 3D 체크상자를 선택한 경우 사용할 수 있습니다. 결과적으로, 입자가 원근법에 위배되는 것처럼 정렬될 수 있습니다.
이 체크상자를 선택하면 프로젝트에서 각 입자의 실제 3D 위치에 따라 입자 시스템에 입자를 그려냅니다. 즉, 카메라에 가까이 있는 입자는 더 크게 보이고 카메라에서 멀리 떨어진 입자는 더 작게 나타납니다.
렌더링 순서: 기존 입자 위쪽이나 아래쪽 중 새로운 입자를 어디에 그려낼지 설정하는 팝업 메뉴입니다. 다음과 같은 두 가지 옵션이 있습니다.
- 가장 오래된 항목 먼저: 새로운 입자가 기존 입자 위쪽으로 나타납니다.
- 가장 최신 항목 먼저: 새로운 입자가 기존 입자 아래쪽으로 나타납니다.
인터리브 입자: 선택하면 여러 셀에서 생성된 입자가 한데 섞이도록 하는 체크상자입니다. 이 체크상자를 선택 해제하면 입자를 생성하는 셀과 같은 순서로 입자가 겹쳐집니다.
참고: 셀이 하나만 포함된 입자 시스템에서는 이 옵션을 사용해도 아무런 효과가 없습니다. 이 옵션을 해제하면 여러 셀을 사용하여 렌더링하는 속도가 빨라집니다.
카메라 보기: 입자 시스템이 활성 장면 카메라를 향하도록 강제하는 체크상자로, 3D를 활성화한 경우 사용할 수 있습니다. 카메라에 대한 자세한 정보는 카메라 추가하기의 내용을 참조하십시오.