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《MainStage 使用手册》
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MainStage 中的 Sculpture 干扰和阻尼对象 2 和 3
本表概述了对象 2 和 3 的所有可用干扰和阻尼类型。有关对象 1 和 2 可用激发类型的信息，请参阅 Sculpture 激发对象 1 和 2。
名称 | 描述 | 强度控制 | 音色控制 | 变化控制 |
|---|---|---|---|---|
干扰 | 放置在距弦乐静止位置固定距离处的干扰对象 | 对象的硬度 | 距静止位置的距离
| 控制宽度。
|
双向干扰 | 有些类似于放置在弦乐周围的圈环，后者限制弦所有方向的振动 | 圈环的硬度 | 圈环的间隙（圈环和弦乐之间的距离）
| 无影响 |
并轨 | 模拟振动弦乐上的自由对象布局或并轨，以及与振动弦乐的交互。事实上这是很少发生的，并且不能同步。 | 控制弦乐上的对象布局/并轨的重力恒量。 | 对象的劲度 | 对象阻尼 |
界限 | 限制和反射弦乐移动的边界。这与用力拨弦时限制弦乐移动的指板十分类似。 | 从边界中心位置到弦乐静止位置的距离 | 边界的斜度（陡缓程度）。值设定为 0.0 时，边界与弦乐平行。设定为其他值时，边界移动到靠近弦乐的一端，而远离另一端。 | 边界界限处的反射量 |
物质 | 用来模拟附加到弦乐的附加物质。如果沿着弦乐对此物质的位置进行调制，则此类型可以生成不和谐音色和极其有趣的结果。 | 物质大小/重量 | 无影响 | 无影响 |
阻尼 | 局部减震器，用于软减震 | 阻尼的强度 | 阻尼特征 | 阻尼弦乐部分的宽度 |
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