《MainStage 使用手册》
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MainStage 中的 EnVerb
EnVerb 是一种功能丰富的混响效果，它的独特之处在于：可让你调整散射混响尾音的包络（形状）。EnVerb 分为以下两个区域：
“时间”参数：图形显示展示了混响在时间（包络）上的电平，并可供调整。你可以控制原始信号的延迟时间，并随时间更改混响尾音。
“声音”参数：位于包络显示下方的控制用来调整混响信号的声音。你可以使用“交叉”参数将传入的信号分成两个波段，并可独立设定低频波段。
若要将 EnVerb 添加到 Concert，请在通道条音频效果插件菜单中选取“混响”> EnVerb。请参阅在 MainStage 中添加和移除插件。
EnVerb“时间”参数
直接在包络显示中拖移参数控制柄，或在参数栏中垂直拖移来调整 EnVerb 的值。
“起音”控制柄和栏： 设定混响攀升到最高值所需的时间。
“衰减”控制柄和栏： 设定混响从最高值下降到延音值所需的时间。
“延音”[保持]控制柄和栏： 垂直拖移来为延音相位设定恒定的混响值。 它用混响信号的最大音量的百分比来表示。参见“保持”参数。
“释音”控制柄和栏： 设定延音相位之后，混响完全渐弱所需的时间。
“干声信号延迟”控制柄和栏： 确定原始信号延迟。 使用“混音”部分的“干声”滑块来设定适当的值。
预延迟栏： 设定原始信号和混响起音相位起始点的时间，即第一次反射开始处。
“保持”[延音]控制柄和栏： 水平拖移来设定混响延音相位的持续时间。 参见“延音”参数。
EnVerb“声音”参数
“密度”旋钮和栏： 设定混响密度。
“展开”旋钮和栏： 控制混响立体声声像的宽度。 如果设为 0%，则产生单声道混响效果。设为 200% 则人为扩大立体声基线。
“高音截频”旋钮和栏： 将高于设定值的频率从混响尾音中滤除。
“交叉”旋钮和栏： 设定用于将输入信号分成两个频段以分别进行处理的频率。
“低频值”旋钮和栏： 设定低于交叉频率的相对频率值（混响信号）。 大多数情况下将此参数设为负值，会得到更加动听的音乐效果。
“干声”和“湿声”滑块和栏： 确定效果（湿声）和直接（干声）信号之间的平衡。